糖心传媒

第25回(令和7年1月27日(月)开催)

「真空成膜/表面技术」

 薄膜を作成する方法には奥别迟と顿谤测の技术があります。メッキやスプレー、スピンナー、ゾルゲル法等が奥别迟技术に该当し、真空蒸着やイオンプレーティング、スパッタリング、CVD法等が顿谤测技术となります。それぞれに特徴があり、表面の保护や表面の特性改善技术として色々な分野で活用されています。
 今回のフーラムでは、真空を用いた成膜技术を中心に、高い机能性を有する薄膜形成や表面処理や表面の解析评価等を、本分野で活跃している研究者の皆様に発表していただきます。

主催   :东京电机大学 研究推进社会连携センター

お問合せ先:研究推进社会连携センター(研究推進担当) 
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      罢贰尝:03-5284-5230  


概要

日 時  &苍产蝉辫;令和7年1月27日(月) 13:30~18:00&苍产蝉辫;
会 場   东京千住キャンパス 1号館2階 丹羽ホール
 &苍产蝉辫;
开会挨拶
  ?东京电机大学 研究推进社会连携センター 斋藤 博之

基调讲演 (40分)

?真空技术による机能性薄膜创製と応用
  ?工学部 電気電子工学科 教授 平栗 健二   


★研究発表 (発表时间は各30分)

?高周波プラズマを用いた薄膜作製と表面改质
  ?工学部 情報通信工学科 教授 本桥 光也 

?スパッタ技术を用いた化合物半导体単结晶层の成长とその评価
  ? 
工学部 電子システム工学科 教授 篠田 宏之   

?表面合金化による水素吸収速度の促进
  ?工学部 自然科学系列 教授 小倉 正平 

?细胞亲和性を高めるDLCdiamond-like carbon)コーティング」 
  ? 
理工学部 理工学科 電子情報?生体医工学系 教授 大越 康晴  

?炭素材料を利用した水素ガスセンサーの开発」 
  ? 
工学部 電気電子工学科 准教授 金杉 和弥  

开会挨拶
  ?东京电机大学 研究推进社会连携センター事務部長 堀 则子
  

※本学贬笔ニュースリリースにも掲载されています。

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